【ZiDongHua 之“会展品牌秀”标注关键词：甬江实验室；微纳平台；CSMNT2026；微纳前沿；创新 】

聚焦微纳前沿，共话创新发展｜甬江实验室微纳平台亮相CSMNT2026

　　2026年10月16日至18日，中国微米纳米技术学会第二十八届学术年会暨第十七届国际会议（CSMNT2026）在浙江绍兴举行。本届大会以“聚越国古都·促微纳转化”为主题，汇聚微纳技术领域的专家学者、科研机构及产业界代表，围绕微纳制造、先进封装、异质集成等前沿技术展开交流，共同探讨微纳技术创新与产业化发展方向。

　　甬江实验室信息材料与微纳器件制备平台（以下简称“微纳平台”）积极参与本次大会。平台主任、北京大学张大成教授再次当选学会副理事长，并作为微米纳米加工技术分会主任委员，主持“微纳加工与集成技术”专题分会场，甬江实验室张瓦利研究员受邀作第一个主题报告。同时，微纳平台首次在大会同期设立展位，向与会人员展示平台工艺技术能力与开放共享服务体系，与行业专家及产业伙伴深入交流，共同探讨微纳制造领域的创新发展与合作机遇。

　　01.聚焦前沿技术，共话微纳制造新发展

　　在大会“微纳加工与集成技术”专题分会场中，甬江实验室微纳平台主任、北京大学张大成教授担任分会场主席，主持开场致辞并介绍会议议程。

　　本次分会场围绕硅基三维微纳加工与集成技术、先进封装与微系统集成技术、非硅微纳加工与集成技术及微纳加工应用等前沿方向展开深入交流，为微纳制造领域的技术创新与产业合作搭建交流平台。

　　甬江实验室张瓦利研究员作主题报告

　　在专题报告环节，甬江实验室张瓦利研究员以《异构集成驱动下的微纳制造关键工艺与技术挑战》为题作主题报告，围绕异构集成技术的发展趋势、关键制造工艺及技术挑战展开分享。

　　报告重点介绍了混合键合、高精度对准、TSV/TGV互连等关键技术，并从微纳制造全流程出发，分析了薄膜沉积、光刻、刻蚀、电镀、化学机械抛光（CMP）及键合等核心工艺的协同关系，以及表面粗糙度、颗粒缺陷、翘曲应力等因素对器件性能和键合良率的影响。结合甬江实验室8英寸异构集成工艺验证线建设实践，张瓦利研究员进一步介绍了面向硅、薄膜铌酸锂（LNOI）、III-V族半导体等多材料体系的工艺能力布局，以及在混合键合、光子集成器件和先进封装等领域的工程化进展，展现了甬江实验室在异构集成关键工艺开发与技术验证方面的探索与实践。

　　丰富的技术内容和平台的高水平综合能力给与会者留下深刻印象，茶歇期间，张瓦利研究员成为吸引听众交流最多的报告人。

　　02.展示平台实力，促进技术交流合作

　　大会同期，甬江实验室微纳平台设立展位，集中展示平台建设成果、工艺技术能力及开放共享服务体系，积极开展技术交流与合作对接。

　　作为甬江实验室面向微纳制造领域建设的开放共享平台，微纳平台依托先进工艺设备与专业技术团队，围绕泛半导体器件芯片研发制造需求，持续完善光刻、薄膜、刻蚀及先进封装等工艺能力，为企业、科研机构及高校提供微纳加工、芯片工艺设计验证和产业化芯片工艺中试技术服务。

　　展会期间，平台工作人员向参会代表介绍了平台设备配置、核心工艺能力及合作服务模式，并围绕微纳加工、异质异构集成、Micro LED、集成光子芯片等领域的工艺需求开展交流，进一步增进了行业伙伴对平台技术能力与服务体系的了解。

　　通过此次参展，微纳平台进一步加强与微纳技术领域科研机构及产业界的交流联系，为后续技术合作、科研成果转化及产业协同发展创造更多机会。

　　03.深化开放合作，赋能产业创新发展

　　目前，微纳平台已形成较完善的工艺能力，能够开展AR光波导相关的光刻、刻蚀以及微透镜阵列等微纳光学器件加工，支持薄膜铌酸锂光芯片制造与测试，并具备多种化合物半导体:材料加工和异质集成能力，为新型光电器件的研发、验证和应用提供芯片制造工艺可行性验证和中试服务。

　　微纳平台建筑面积12000平方米，其中洁净室面积6000平方米，配备165台(套)工艺和检测设备，已形成6英寸研发和8英寸验证两线能力。平台覆盖材料制备、芯片制造、器件封装及测试分析等环节，面向多材料体系和不同尺寸基片的工艺研发与验证需求。微纳制造是支撑新一代信息技术、先进半导体器件及多领域交叉创新的重要基础。随着异质异构集成、先进封装和新型微纳器件技术持续发展，开放共享的工艺平台在连接科研创新与产业应用方面发挥着日益重要的作用。

　　未来，甬江实验室微纳平台将继续坚持开放、专业、合作的理念，持续提升微纳加工工艺能力与技术服务水平，深化与高校、科研院所及产业链企业的协同合作，推动微纳制造技术创新与科研成果转化，为微纳技术领域高质量发展提供有力支撑。

　　以开放促合作，以创新促发展

　　甬江实验室微纳平台期待与更多合作伙伴携手，共同探索微纳制造与异构集成技术的创新未来。