【ZiDongHua 之“会展赛培坛”收录关键词：璞璘科技 SiC 光电博览会 】
　　
　　璞璘科技诚邀您参加第26届中国国际光电博览会
　　
　　2025
　　
　　INVITATION·WELCOME YOU
　　
　　第26届中国国际光电博览会
　　
　　2025年9月10-12日
　　
　　INVITATION邀请您
　　
　　第26届中国国际光电博览会即将拉开序幕，本次展会璞璘科技将带来中国首台半导体级纳米压印光刻技术方案。针对SiC衬底刻蚀AR衍射光波导应用的纳米压印设备、材料和工艺的闭环解决方案，以及对光学为应用的各类其他产品和服务。在此诚挚地邀请您莅临现场洽谈、交流、合作。
　　
　　01展位介绍
　　
　　会期：2025年9月10日～9月12日
　　
　　会场：深圳国际会展中心（宝安）
　　
　　展位号：2B111／2号馆
　　
　　02产品介绍
　　
　　PL-SR 喷墨步进式纳米压印系统
　　
　　PL-SR系列是一款步进式的纳米压印系统，其压印方式采用板对板压印方式，具备自主知识产权的模板面型控制和动态贴合系统，大大减少了压印过程中的缺陷。该系统搭载高精度喷墨打印系统，可实现≤士1um的高精度对位功能，具备精确的残余层控制能力以及高精度的模板拼接能力。
　　
　　PL-SR可实现最大12英寸晶圆的拼板功能，在光学和半导体领域有巨大的应用前途。
　　
　　PL-A 真空气压式纳米压印系统
　　
　　PL-A 纳米压印系统是一款量产型的气压式纳米压印设备最大兼容300mm直径的晶圆。其极具特色的脱模工艺可适用于多种变周期结构和多方向结构。
　　
　　柔性复合工作模具结合气压式压印方式可保证整个晶圆表面压力具有极高的均匀性:特殊工艺条件下可实现零残余层的纳米压印。此外，这种特色的压印方式还支持曲面压印工艺。PL-A非常适应于半导体、光学、生物检测等领域的微纳结构加工制造，具有大吞吐量和低成本的优势。
　　
　　PL-P 硬对硬纳米压印系统
　　
　　PL-P是一款硬对硬纳米压印系统，该系统具备高精度调平系统，可实现<0.5um@8inch精度的调平，同时具备<士1um的对位精度。
　　
　　硬对硬纳米压印系统具备高吞吐量和低成本的优点，非常适合批量生产较大结构尺寸的microlens等光学器件。PL-P为满足硅片等不透光衬底的双面套刻功能，可定制红外光源相机或者增加背部相机，以满足硅透镜等产品的对位需求。
　　
　　璞璘科技全系列纳米压印材料
　　
　　03展会地址
　　
　　璞璘科技(杭州)有限公司成为立于2017年,是一家致力于成为全球知名的纳米压印高端制造商。创始团队深耕纳米压印技术行业二十五年，拥有超过十名博士学位的研发团队，是目前国内最具特色的纳米压印技术团队。
　　
　　我们诚挚邀请您莅临深圳国际会展中心2号馆111展位，与璞璘科技一起探索无限可能。期待与您在深圳相聚！