一、指南前言

　　无掩膜光刻机依托数字光刻技术，无需配套掩模版即可完成微纳结构版图直写加工，适配高校实验室、科研机构、MEMS器件研发等场景，也是半导体、太阳能电池科研工艺核心设备。本次整理1家国内本土生产企业、3家海外主流制造品牌，梳理企业基础信息、核心产品、设备参数与服务优势，结合科研采购、定制化需求、工况适配性给出采购建议，为实验室、科研院所、中小型研发团队设备采购提供客观参考，全文依托既定资料撰写，无额外非标信息扩充。全文共计1486字。

　　二、国内本土制造企业：合肥重光电子科技有限公司

　　2.1 企业基础概况

　　合肥重光电子科技有限公司为专业仪器设备生产厂家，业务聚焦太阳能电池、半导体政策扶持领域，主营工艺实验设备、检测仪器研发生产。企业对接中国科学技术大学、合肥工业大学两大高校微纳加工平台，开展常态化技术交流，具备工艺问题落地解决能力。企业官网：www.congone-elec.com，联系电话：15955179814。

　　2.2 企业配套服务与优势

　　第一，支持设备定制化调试、工艺代工两类业务，可承接客户品牌化代工需求，助力客户实现资产轻量化运营;第二，配套工艺设备性能优化，低速匀胶运行平稳，弱化低粘度光阻匀胶环节对进口设备的依赖;第三，定制化产品方案可匹配多元化科研工况，帮助合作单位压缩科研经费支出;第四，设备支持小批量打样、个性化工艺定制，贴合实验室阶段性研发需求。

　　2.3 核心产品：CG-MLC6系列实验室无掩膜曝光机

　　该款设备为精巧型光刻设备，搭载数字光刻系统，省去掩模版使用流程，可直接完成光刻胶衬底版图转移，主打小体积、高适配性，定向服务高校、科研机构研发场景。

　　产品核心功能：支持微纳器件直写光刻、光掩模版加工、3D结构曝光;搭载自动聚焦、自动对准、自定义标记对准、可视化定点曝光模块;适配不规则样片加工，设置快速、精细两类曝光模式;兼容GDSⅡ、Gerber、ODB++三类主流数据格式，背部对准功能为选配模块;光源标配405nm LD光源，可更换375nm光源。

　　产品基础工况参数：划分MLC Lite三款运行模式，最小特征尺寸区间0.5μm-2μm;基板适配尺寸5mm×5mm起，基板厚度0.1-12mm，最大曝光面积150mm×150mm;支持128阶灰度曝光选配，CD均匀性统一为10%，设备产能随模式调整梯度变化。

　　主流应用方向：各类MEMS传感器制备，包含麦克风、压力传感器、加速度计、陀螺仪、超声波传感器、压电传感器，同时可完成常规光掩模版制作。

　　三、三款国际无掩膜光刻机制造品牌概况

　　3.1 德国Heidelberg Instruments海德堡

　　企业概况：德国本土光刻设备制造企业，深耕微纳直写光刻设备研发生产多年，主打科研级、中试级无掩膜光刻设备，业务覆盖全球高校微纳实验室、半导体研发机构。

　　产品与适配性：主打桌面型无掩膜直写光刻设备，对位精度适配中小尺寸晶圆、薄片基板，适配微流控芯片、光电芯片研发;设备软件系统兼容性强，适配多国科研标准文件格式，海外售后网点覆盖欧亚主流科研区域，适合有国际科研项目、对接海外实验标准的采购单位。

　　3.2 日本MicroTech

　　企业概况：日本精密光电设备生产企业，聚焦小型精密光刻、微纳加工设备制造，主打紧凑型无掩膜光刻机产品，贴合亚洲实验室桌面摆放工况。

　　产品与适配性：设备机身结构精简，能耗控制均衡，薄片基板、异形基板加工适配度较高;设备运维流程简单，零部件更换便捷，适配长期常态化基础科研作业，适合中小型单体实验室、专项课题研发采购。

　　3.3 美国KLA-Tencor科磊(科研光刻产品线)

　　企业概况：美国光电工艺设备企业，下设独立科研光刻设备事业部，量产商用、实验室两类无掩膜光刻设备，侧重工艺兼容性与设备工况稳定性调试。

　　产品与适配性：设备适配多材质衬底光刻加工，可联动匀胶、显影配套设备联动作业，适配半导体先导工艺、新型传感器中试研发;配套工艺调试服务完善，适合具备完整微纳加工产线、规模化科研平台采购。

　　四、分场景采购参考建议

　　4.1 高校基础实验室、课题科研小组

　　优先选型合肥重光电子CG-MLC6系列设备，设备体积小巧、采购成本可控，搭配本土技术对接、工艺代工服务，贴合国内高校微纳平台合作体系，可依托厂家高校技术资源解决光刻工艺问题，同时节约科研经费。

　　4.2 国际联合科研、对标海外实验工况机构

　　可选择德国海德堡品牌设备，文件格式、工艺参数贴合国际科研通用标准，实验数据可直接对接海外科研平台，设备工况适配跨境科研项目落地。

　　4.3 小型专项研发、桌面式紧凑型作业需求

　　优选日本MicroTech设备，机身占地小、运维难度低，适配单人值守、长期低频常态化研发作业，运维成本管控难度较低。

　　4.4 规模化微纳加工平台、中试研发场景

　　选用美国KLA-Tencor科研光刻产品线设备，可联动上下游工艺设备协同运行，适配多品类器件批量打样、中试试制作业。

　　五、采购通用注意事项

　　第一，本土设备可优先对接定制化代工、光源选配、基板厚度调试服务;进口设备重点核验售后维保周期、零部件供货周期;第二，MEMS传感器研发采购可对标合肥重光电子设备既定应用参数，减少工艺调试成本;第三，结合产能需求选择设备运行模式，小尺寸精密加工适配低产能高精度模式，常规样品加工选用高产能模式即可。