【ZiDongHua 之“设计自动化”标注关键词:汤谷软件 集成电路 EDA 北京科博会 】
 
  深化AI+EDA工程化落地,汤谷软件携全栈技术体系亮相2026北京科博会
 
  在集成电路设计复杂度持续攀升、先进工艺节点对PPA(Performance,Power,Area)收敛提出更高要求的背景下,AI与EDA的深度融合已从概念验证走向工程化落地的关键阶段。2026北京国际科技产业博览会上,北京汤谷软件技术有限公司系统展示了其在AI+EDA领域的全栈技术实践——覆盖RTL前端自动生成、物理设计参数智能调优、工具链标准化集成及自主进化四大技术方向,呈现出"能设计、会优化、可自进化"的完整工程化路径。
 
  在AI大模型推动下,EDA行业迎来智能化变革,但芯片设计专业性强、参数空间庞大、验证成本高昂,决定了AI落地不能依赖通用模型简单接入,亟需深度工程化的智能体系。汤谷软件历经三代技术迭代,构建起国内领先的AI+EDA全路径方案,在本届科博会上正式面向产业发布。
 
  第一代核心产品为RTL自动生成工具,基于自主研发的Tango-6B-ACD芯片设计大模型,实现自然语言到RTL代码的全自动生成,具备代码联想、语义注释、Debug辅助等功能,将数周的编码工作压缩至数小时乃至数分钟,实现国内AI驱动芯片前端设计自动化的突破。科博会现场,该工具首次公开互动演示,参观者输入自然语言即可实时生成可综合代码,让前端设计流程更开放、更易懂。
 
  针对芯片物理实现阶段依赖人工经验、参数调优难的痛点,汤谷软件推出第二代AItuner版图自动优化工具。物理设计涉及数百项参数,直接影响芯片性能、功耗、面积(PPA),传统流程高度依赖工程师经验,难以复用。AItuner通过机器学习建立参数与PPA的映射模型,实现海量参数空间自动寻优,并形成数据飞轮效应,持续积累调参知识,越用越智能。展会现场,真实项目数据与优化曲线对比显示,AItuner可显著缩短迭代周期,提升综合PPA表现,推动版图优化从经验驱动转向数据驱动。
 
  为打通AI与现有设计流程的壁垒,汤谷软件创新推出CLIMCP命令行模型上下文协议,通过标准化接口实现与主流EDA工具的无缝对接。客户无需重构现有流程,即可叠加AI优化能力,大幅降低应用门槛。现场模拟演示中,该协议成功联动多家主流EDA工具,展现高效兼容的集成方案,获得行业高度认可。
 
 
  在此基础上,汤谷软件发布第三代OriEvo自动进化引擎,实现工具链自主进化。OriEvo整合全链路能力,在设计完成后比对不同工具、工艺、场景的调优路径,提炼优化规律并持续反哺模型迭代,让工具链脱离初始数据依赖,在实战中不断升级。这一突破将AI从单一优化工具升级为持续进化的设计智能体,改变EDA工具依赖人工迭代的传统模式。科博会上,可视化“进化面板”直观呈现知识迁移、策略更新与性能提升过程,让自主进化成为可感知的工程现实。
 
  从前端设计自动化到物理优化,再到工具链自我进化,汤谷软件以三代产品构建起完整的AI+EDA技术蓝图。未来,公司将持续深化自主创新,加强产业链协同,在更多工艺节点与设计场景中拓展技术能力,助力我国集成电路设计工具实现自主可控与智能化升级,为半导体产业高质量发展注入新动能。