【ZiDongHua 之“会展品牌秀”标注关键词：   】
　　
　　携手共建光子产业生态｜逍遥科技亮相 2026 中国光博会
　　
　　9月9日至11日，第27届中国国际光电博览会（CIOE中国光博会）在深圳国际会展中心举行。本届展会以“AI赋能光电新变革”为主线，联合IICIE国际集成电路创新博览会、elexcon深圳国际电子展暨嵌入式展形成“三展联动”，覆盖信息通信、精密光学、激光智能制造成、红外、智能传感、光电子创新、AR/VR等八大板块，超4000家光电企业、30余个国家和地区展商集中展示从材料、芯片、器件到系统方案的全链条成果。
　　
　　同期90余场论坛中，信息通信产业发展论坛、CIOE&YOLE国际论坛等将“面向下一代AI算力集群的新型光互连”“NPO/CPO商业化”“硅光集成与全光交换”“OCS调度”列为重点议题；展会现场800G规模化、1.6T模块迭代、LPO低功耗短距、CPO/NPO共封装、空芯光纤、硅光与薄膜铌酸锂异质集成等方向密集首发，清晰指向“更高带宽、更低功耗、更高密度”的AI光底座。
　　
　　在2号馆2D160展位，逍遥科技与南智光电（IOPTEE）联合参展，以“PIC Studio全流程设计+南智光电多材料工艺平台”的组合，回应AI光互连时代光子芯片“设计难、验证慢、流片贵”的共性痛点。
 
　　
　　图1：南智光电&逍遥科技展位
　　
　　从论坛热点到设计工具：PIC Studio承接AI光互连需求
 
　　
　　图2：客户驻足了解PIC Studio全流程工具链
　　
　　针对论坛中高频讨论的1.6T/3.2T光收发、NPO/CPO光引擎、硅光与TFLN异质集成，逍遥科技现场展示PIC Studio一体化EPDA工具链：Advanced SDL以原理图驱动版图，拖拽式完成多通道光子链路并自动生成PhotoCAD脚本与GDS；PhotoCAD通过Python代码化绘版、参数化PCell和智能光布线，支撑大规模多通道PIC快速布局；pSim完成片上光电链路时域/频域仿真，pSim Plus扩展系统级验证，可纳入TIA、驱动器、DSP、FEC/FFE、光纤非线性与PMD模型，直接评估眼图、误码率、TDECQ与星座图；pMaxwell提供调制器、探测器、解复用器等器件级FDTD/RCWA电磁求解；pVerify/nVerify承接DRC、LVS，按代工厂规则做可制造性校验。
 
　　
　　图3：逍遥科技工程师介绍pMaxwell功能
　　
　　在CPO/NPO场景中，传统“碎片化工具有源无源分离”难以覆盖光?电?热协同：PIC Studio可将硅光调制器、TFLN调制器、InP探测、片上波导复用、封装通道与电芯片模型放在同一链路中前仿/后仿，先在版图定型前预测信号完整性、串扰与功耗边界，再经PhotoCAD出图、pVerify兜底规则，减少“改版?流片?再改版”循环。对LPO短距互联，pSim Plus可加载实测S参数、IBIS-AMI与行波电极模型，用蒙特卡洛分析工艺偏差对眼图余量的影响，适配800G/1.6T低速重定时架构评估。
　　
　　南智工艺+逍遥PDK：把“设计端”接上“流片端”
　　
　　南智光电聚焦“薄膜铌酸锂+X”异质集成，建成薄膜铌酸锂、硅光、氮化硅、MEMS等方向工艺与中试能力，并提供概念验证、工艺研发、MPW/量产流片与代工服务；其晶圆级薄膜铌酸锂PDK、硅光PDK已面向设计工具生态开放。
 
　　
　　图4：专业观众聚集联合展板前探讨光电EDA设计平台
　　
　　此前双方已达成生态合作，南智向逍遥平台开放铌酸锂、硅光、氮化硅、MEMS等系列PDK，逍遥在PIC Studio中做集成展示、客户导入与培训，形成“PDK—设计工具—MPW流片—测试反馈”闭环；用户可在同一软件环境调用南智设计规则、器件库与参考流程，完成仿真、版图、DRC/LVS后直接发起MPW或定制流片咨询。
　　
　　这一组合恰好对接本届展会“以光互连支撑算力基础设施”的主线：硅光平台侧重高速收发与规模化集成，TFLN平台侧重大带宽低损耗调制与微波光子，氮化硅侧重多通道滤波与传感，MEMS/超构方向补充可重构与新型感知；通过PIC Studio统一入口，研发团队无需在多个厂商格式间手工转档，可把论坛中提到的1.6T DR8、3.2T CPO外置光源、多波长可调谐、光计算互连等方案做成可流片工程版本。
　　
　　展望：从工具协同到AI光电生态闭环
　　
　　CIOE 2026显示，AI与光电融合已从单点器件走向“光互连+智能感知+智造”的系统竞争。对光子芯片而言，下一代竞争力不只取决于单颗调制器或单条产线，而取决于“PDK标准化—设计自动化—版图可制造—流片可反馈—模型可迭代”的全周期效率。逍遥科技与南智光电的联合展陈，正是把EPDA软件与多材料Foundry能力前置绑定：一方面用PIC Studio降低硅光、TFLN、SiN、MEMS的跨平台设计门槛，另一方面用南智工艺与MPW体系把设计结果快速转化为可测芯片，再反哺紧凑模型与PDK迭代。
　　
　　面向未来，逍遥科技将持续迭代升级 PIC Studio 平台，不断强化光电协同仿真、智能化版图综合、多工艺 PDK 兼容能力；同时深化与南智光电等产业链伙伴的生态协同，持续丰富 PDK 资源库，完善 “EDA 工具?工艺 PDK?流片代工?技术培训” 产业闭环，面向企业研发、高校科研提供更完善的光子设计解决方案，助力国内光子集成产业实现技术突破与规模化发展，与全行业伙伴共同把握 AI 光电变革时代的发展机遇。
　　
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　　NOTICE
　　
　　软件试用申请
　　
　　欢迎光电子芯片研发人员申请 PIC Studio试用。套件包含：代码绘版软件 PhotoCAD、DRC 软件 pVerify、片上链路仿真软件 pSim 、光纤系统仿真软件pSim Plus等。其中，pMaxwell 作为高级仿真模块，现面向重点客户开放商业版试用申请，敬请联系商务获取授权。更多新功能和新软件将于近期发布，敬请期待！